本系列設(shè)備的成套供應(yīng)范圍有溫度控制器、熱電偶、補(bǔ)償導(dǎo)線等。溫度控制有繼電器控制、可控硅控制二種，由于是間歇式作業(yè)爐，一般都采用40段PlD可編程控制，能嚴(yán)格控制產(chǎn)品的燒制過程。具備完善的保護(hù)功能，有超溫、短偶、過流、短路、傳動(dòng)動(dòng)作連鎖等功能，操作安全可靠；立式真空管式爐適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)。

   

立式真空管式爐的優(yōu)缺點(diǎn)

    優(yōu)點(diǎn)：

    工藝成熟;

    爐型結(jié)構(gòu)簡單；

    操作容易，便于控制，能連續(xù)生產(chǎn)；

    乙烯、丙烯收率較高，產(chǎn)物濃度高；

    動(dòng)力消耗少，熱效率高；

    裂解氣和煙道氣的大部分可以設(shè)法回收；

    原料的適用范圍隨著裂解技術(shù)的而日漸擴(kuò)大；可以多爐組合而大型生產(chǎn)。

    缺點(diǎn):

    (1)對重質(zhì)原料的適用性還有一定限度

    裂解重質(zhì)原料時(shí)，由于重質(zhì)原料容易結(jié)焦，故不得不縮短運(yùn)轉(zhuǎn)周期，降低裂解深度，經(jīng)常輕焦，縮短了常年有效生產(chǎn)時(shí)間，也影響了裂解爐及爐管的壽命。降低裂解深度的結(jié)果時(shí)原料利用率不高，重質(zhì)原料油等低值品量大，公用工程費(fèi)用也增高。

    （2）按高溫短停留時(shí)間和低烴分壓的工藝要求，勢必增大爐管的表面熱強(qiáng)度，這就要求油耐高溫的合金管材和鑄管技術(shù)。